NanoLund-avknoppningsföretaget AlixLabs har valts ut som vinnande deltagare bland 150 företag från 28 länder i den tredje omgången av IC Taiwan Grand Challenge, en internationell tävling som uppmärksammar banbrytande innovationer inom halvledarteknik och andra relaterade tekniker. AxiLabs tog hem priset i kategorin Smart Manufacturing.
IC Taiwan Grand Challenge, organiserad av Taiwans nationella vetenskaps- och teknikråd (NSTC), sammanför ledande teknikföretag och forskningsdrivna startups från hela världen. Programmet är utformat för att främja internationellt samarbete, accelerera banbrytande innovationer och stärka det globala halvledarekosystemet.
I ett mycket konkurrensutsatt globalt fält valdes AlixLabs ut för sin Atomic Layer Etch Pitch Splitting (APS)-teknik – en banbrytande lösning utformad för att möjliggöra avancerad halvledartillverkning. Enligt AlixLabs belyser detta erkännande AlixLabs roll i att hantera kritiska utmaningar inom nästa generations chipproduktion, särskilt i takt med att industrin strävar mot allt mindre noder, vilket ökar behovet av mer energieffektiva lösningar.
AlixLabs grundades 2019 som en avknoppning från Lunds universitet och RISE ProNano. Företaget fokuserar på att revolutionera halvledartillverkningen genom sin unika och patenterade metod för Atomic Layer Etching Pitch splitting (APS).
Företagets APS-teknik möjliggör mönsterbildning under 10 nm utan att kräva dyr EUV-litografi eller flera mönstringssteg. Tekniken utnyttjar Atomic Layer Etch (ALE)-principer för att selektivt dela linjemönster med precision i atomär skala och erbjuda en effektiv väg till att skapa högupplösta strukturer i både logik- och minnesenheter. Enligt organisationen bakom IC Taiwan Grand Challenge (ICTGC) är tekniken idealisk för avancerade logik- och minnesnoder, sammansatta halvledarenheter och kostnadskänsliga applikationer där traditionella EUV- eller multimönstermetoder kan visa sig vara för kostsamma eller begränsande. APS-tekniken syftar till att lösa befintliga problem i halvledartillverkningsprocesser för noder under 10 nm genom att eliminera behovet av multipel mönsterbildning, ge finare funktionsstorlekar, minska energi- och materialanvändning, möjliggöra mönsterbildning med hög densitet på känsliga material och förbättra tillverkningsbarhet och skalbarhet inom logik, minne och kraftelektronik.
Enligt ICTGC har AlixLabs APS-teknik framgångsrikt demonstrerats på United Microelectronics Corporation (UMC)-wafers genom ett pågående samarbete. APS-tekniken löser utmaningarna med avancerad mönstring genom att ersätta kostsamma och komplexa mönstringssteg med en enklare, självjusterande atomlager-etsningsprocess. Tekniken erbjuder skalbarhet, materialselektivitet och industriell validering, vilket enligt ICTGC gör den till en framtidsklar lösning för nästa generations chiptillverkning.
– Vi är hedrade över att NSTC och juryn för IC Taiwan Grand Challenge har utsett AlixLabs och APS till ett vinnande bidrag bland 150 deltagare. Detta erkännande av vår teknik understryker vår övertygelse om att den kan transformera ledande halvledartillverkning, och det finns ingen bättre plats att göra detta på än i Taiwan, säger Amin Karimi, COO och FoU-chef på AlixLabs.
Även ett danskt företag finns med bland vinnarna. Det är PurCity ApS och dess teknik att rena luft och samtidigt spara 60 procent energi som vann pris i kategorin Sustainability.
