Litografiföretaget Obducat har signerat samarbetsavtal med Institute of Advanced Technology (IAT) vid University of Science and Technology of China (USTC) i Hefei, Kina. Samarbetsavtalet fokuserar på utveckling av nästa generation LED-teknologi.
USTC beställde ett EITRE 6 nanoimprintlitografi (NIL)-system av Obducat i augusti i år. NIL-systemet har nu skeppats till kunden.
Obducat har nu också ingått ett samarbetsavtal med Institute of Advanced Technology vid USTC som är fokuserat på utveckling av nästa generation LED-teknologi. Målet är att ytterligare förbättra energieffektiviteten i dagens High Brightness LEDs i kombination med reduktion av produktionskostnaden.
Obducat kommer att bistå Institute of Advanced Technology med processkunnande, tillverkning av nickelstämplar, såväl som med övergripande support avseende övergång från FoU till industriell massproduktion.
Institute of Advanced Technology och Obducat kommer gemensamt att samarbeta med industriella partners. Obducat kommer också att stödja projektet genom överföring av Obducat NIL-teknologi till dessa industriella partners. Samarbetet kommer löpa över en period om två år.
